Giám sát ô nhiễm phân tử AMC bảo vệ lithography: PMS AirSentry II
29/07/2026
Ô nhiễm phân tử AMC đầu độc chất cản quang và làm mờ quang học. PMS AirSentry II dùng công nghệ IMS phát hiện axit, base, dopant ở mức ppb–ppt, với cấu hình Point-of-Use và Mapping tới 32 điểm. [...]