Lasair Pro 310
Máy cầm tay tiêu chuẩn cho audit phòng sạch quang học ISO 5-8, validation HVAC, chứng nhận theo ISO 14644-1. Pin lithium sạc nhanh, lưu trữ 5000 location.
Bảo vệ optics chính xác, lens/mirror cleanroom, sensor và laser source khỏi nhiễm bẩn submicron — bước sóng càng ngắn, mật độ năng lượng laser càng cao, mọi hạt tiểu phân đều có thể phá hỏng component. Particle Measuring Systems giữ phòng sạch quang học của bạn sạch tuyệt đối — phân phối chính thức tại Việt Nam bởi Techmaster.
“Trung tâm giải pháp đo lường tiểu phân cho phòng sạch quang học, laser, lens, mirror và sensor photonics Việt Nam — Lasair Pro, Lasair III, IsoAir Pro, NanoAir 10, Chem 20, AirSentry II AMC.”
Từ DUV/EUV lithography optics đến lens grinding, mirror coating, laser assembly và sensor packaging — Techmaster tư vấn cấu hình tối ưu cho ngành quang học Việt Nam.
Handheld nhẹ pin sạc — chuyên cho validation HVAC, ISO 14644 spot-check, certification phòng coating, lens assembly và sensor packaging room.
Máy cầm tay tiêu chuẩn cho audit phòng sạch quang học ISO 5-8, validation HVAC, chứng nhận theo ISO 14644-1. Pin lithium sạc nhanh, lưu trữ 5000 location.
Cầm tay lưu lượng 50 LPM — nhanh gấp đôi version 310. Lý tưởng audit nhiều phòng lens grinding, coating chamber, laser room trong 1 ca làm việc.
Lưu lượng 100 LPM — classification toàn nhà máy optics trong 1 ca. Dành cho nhà máy quang học quy mô lớn, sensor packaging, fiber optic production.
Cố định hoặc trolley, độ nhạy từ 0.1 µm — bắt buộc cho DUV/EUV lithography optics, mirror telescope, lens chính xác và laser source critical.
Máy đếm hạt độ nhạy 0.1 µm cao nhất — chuẩn cho DUV/EUV lithography lens, mirror sub-aperture polishing, sensor critical. Đáp ứng yêu cầu laser damage threshold.
6 kênh đo (0.3, 0.5, 1.0, 5.0, 10 µm) cho lens coating, laser optics assembly, fiber alignment. Cân bằng độ nhạy và chi phí cho 90% ứng dụng photonics.
Lưu lượng 50 LPM (vs 28.3 LPM tiêu chuẩn) — giảm 40% thời gian sampling cho phòng sạch optics có thể tích lớn, sampling 20+ vị trí ISO 14644-1.
Tích hợp FacilityPro FMS, truyền dữ liệu liên tục — giám sát lens coating chamber, laser source room, sensor packaging 24/7, alarm tức thời.
Máy cố định kết nối Ethernet cho nhà máy quang học có hạ tầng dây sẵn. Tích hợp FMS qua TCP/IP, OPC UA, BACnet cho lithography line và optics critical room.
Wireless cho cleanroom photonics — không cần kéo dây qua vibration-sensitive area, deploy linh hoạt cho laser room, mã hóa AES 2.4 GHz. Tiết kiệm 70% chi phí cabling.
Bản entry-level cho dự án optics R&D, prototype lens, lab quang học có ngân sách hạn chế. Vẫn đảm bảo độ tin cậy PMS với chi phí đầu tư tối ưu.
Máy CPC độ nhạy siêu cao 10 nm cho EUV photonics R&D và máy cầm tay nhẹ nhất cho audit nhanh trong fiber optic, sensor module assembly.
Máy đếm hạt độ nhạy 10 nm cho EUV lithography optics R&D, advanced laser source, ultra-high reflectivity mirror coating. Duy nhất trên thị trường — chuẩn cho photonics next-gen.
Máy cầm tay nhẹ nhất, giá kinh tế cho audit nhanh fiber optic assembly, sensor module, R&D laser lab. Dưới 1 kg, pin 8 giờ, output XML/PDF report.
Cảm biến đếm hạt 4 dải kích thước, kết nối mạng — deploy facility-wide cho display panel, fiber optic factory, lens grinding workshop. Chi phí thấp nhất trên kênh đo.
Đo tiểu phân trong DI water rửa lens, photoresist chemical, coating solution và AMC giám sát ammonia/sulfate gây laser damage và haze trên optics.
Máy đếm hạt 20 nm trong dung dịch chemical — chuẩn cho photoresist photonics, optical coating solution, sensor wet chemistry. Phát hiện nhiễm bẩn submicron trước khi gây defect.
Giám sát AMC (Airborne Molecular Contamination) cho DUV/EUV lithography lens, mirror haze prevention, laser damage threshold — bắt ammonia, acid, sulfate ở ppt-level.
Đếm hạt nước siêu tinh khiết UPW cho lens cleaning, mirror rinse, sensor surface preparation. Cùng công nghệ dùng cho semiconductor 7nm UPW system.
Mỗi class ISO 14644 có giới hạn tiểu phân riêng — bước sóng ngắn và laser power cao yêu cầu cleanroom critical nhất, chọn đúng máy từ đầu để ngăn laser damage và haze.
Lens DUV/EUV, EUV mirror coating, high-power laser cavity. Yêu cầu detect 0.1 µm và 10 nm CPC. Cleanroom critical nhất.
Lens grinding, mirror polishing, optical coating chamber, sensor wafer bonding. Cân bằng độ nhạy 0.3 µm và chi phí.
Fiber optic alignment, display panel assembly, camera module packaging. Yêu cầu thấp hơn — ưu tiên kinh tế và mật độ sensor.
Hệ thống FMS PMS giám sát toàn bộ nhà máy quang học — từ lens grinding đến laser packaging, audit trail data integrity, alarm real-time, báo cáo tự động cho ISO 14644, ISO 21501-4 và yêu cầu OEM customer.
Kỹ sư Techmaster Vietnam tư vấn miễn phí cấu hình, demo tại site, và lập đề án FMS turnkey cho lens grinding, mirror coating, laser source, sensor packaging, fiber optic và display panel cleanroom.