Giám sát hệ thống UPW bằng cách sử dụng Ultra DI® 20

Giám sát hệ thống nước siêu tinh khiết (UPW) bằng cách sử dụng Ultra DI® 20

Sơ lược

Thông qua những tiến bộ liên tục về quy trình và thiết bị, các nhà sản xuất chất bán dẫn đang đạt đến kích thước tính năng 14 nm và thậm chí còn nhỏ hơn, trong khi chiều cao của ổ đĩa cứng hiện thấp hơn 10 nm. Kích thước tính năng của thiết bị ngày càng giảm này đòi hỏi những cải tiến tương đương về mức độ sạch trong nước siêu tinh khiết (UPW). Độ tinh khiết của UPW đặc biệt quan trọng với việc sử dụng nhiều khi tiếp xúc trực tiếp với tấm wafer như một chất làm sạch và rửa cuối cùng trong nhiều bước sản xuất. Tận dụng những tiến bộ gần đây trong công nghệ máy dò và quang học laser, Ultra DI® 20 có thể theo dõi hiệu quả nồng độ hạt UPW ≥20 nm, hoặc trong trường hợp hạt kim loại, ≥9 nm. Việc giám sát diễn ra liên tục và diễn ra trong thời gian thực để cho phép kiểm soát quá trình tối đa. Độ nhạy định cỡ hàng đầu trong ngành này được cung cấp trong một hệ thống tương quan tốt với phép đo hạt 50 nm kế thừa để đảm bảo tính liên tục của dữ liệu. Ultra DI 20 của Particle Measuring Systems® (PMS) được phát triển đặc biệt để đáp ứng những thách thức của vi điện tử UP.

Monitoring of UPW Systems Using Ultra DI 20

Tổng quan về hệ thống UPW

UPW được xử lý thông qua một quy trình gồm nhiều bước (Hình 1) để đáp ứng các tiêu chuẩn chất lượng cao cho sản xuất chất bán dẫn, ổ đĩa cứng và MEM hàng đầu. Những tiến bộ trong xử lý và lọc nước tại các cơ sở UPW quan trọng cung cấp nước ở mức độ sạch tốt hơn so với nhiều thiết bị đo lường hiện có có thể đo chính xác. Trên thực tế, hầu hết các hệ thống UPW hiện đại đều sạch đến mức có ít hơn 100 hạt / Lít có kích thước lớn hơn 50 nm. Ở các mức nhiễm bẩn thấp này, những thay đổi về nồng độ hạt ở bước sóng 50 nm gần như không thể nhìn thấy được khi chúng đạt đến giới hạn phát hiện của các thiết bị cũ. Việc cải tiến chất lượng UPW liên tục này đòi hỏi một giải pháp giám sát mới có thể phát hiện các hạt nhỏ hơn đáng kể ở nồng độ rất thấp.

Trong nhiều hệ thống nước siêu tinh khiết, nồng độ hạt chỉ được đo sau bước lọc cuối cùng. Mức độ hạt cần càng thấp càng tốt tại điểm sử dụng nơi nước tiếp xúc với tấm wafer. Chúng tôi khuyến nghị rằng việc giám sát hạt cuối cùng được đặt càng gần điểm sử dụng của UPW càng tốt để đảm bảo rằng nó đang ghi lại một phép đo thực sự về độ phơi nhiễm của tấm wafer.

Giới thiệu về Ultra DI 20

Ultra DI 20 là máy đếm hạt tiểu phân trong dung dịch có độ nhạy 20 nm (PSL) và 9 nm (kim loại) đầu tiên trong ngành. Thiết bị mới này được trang bị công nghệ máy dò và tia laser tiên tiến để thu thập đủ ánh sáng tán xạ từ những hạt cực nhỏ này. Ultra DI 20 được thiết kế để hoạt động liên tục, cung cấp dữ liệu thời gian thực ổn định, giảm lượng nước tiêu thụ để có thể áp dụng bên trong các khu vực thiết bị quy trình có lưu lượng hạn chế. Đây là một giải pháp lý tưởng để cho phép giám sát liên tục các hạt tiểu phân của hệ thống UPW để sản xuất chất bán dẫn, ổ đĩa cứng và MEM hiện đại.