Chiến lược giám sát hạt tiểu phân trong UPW: 300 mm Fabs

Chiến lược giám sát hạt tiểu phân trong UPW: 300 mm Fabs

Sự cố quy trình do các hạt tiểu phân trong Nước siêu tinh khiết (UPW) gây ra là những sự kiện tương đối hiếm khi xảy ra, nhưng với việc chuyển sang tấm wafer 300 mm và chiều rộng vạch 90 nm, chúng có thể gây ra tác động đáng kể về mặt tài chính. Hầu hết các chiến lược giám sát hạt tiểu phân trước đây đều tập trung vào việc sử dụng máy đếm hạt tiểu phân 0,05 micron di động và có độ nhạy cao trong dòng. Bài báo này xem xét các cơ hội để cải thiện hiệu suất, theo dõi xu hướng dữ liệu và giảm chi phí bằng cách sử dụng kết hợp cả máy đếm hạt tiểu phân có độ nhạy cao (đến 0,03 micron) và máy đếm độ nhạy thấp hơn (0,1 micron) ít tốn kém hơn với lượng mẫu rất cao. Phạm vi của bài báo này trình bày chi tiết tác động của độ nhạy kích thước, khối lượng mẫu và mức đếm 0 đối với hiệu suất của máy đếm hạt tiểu phân. Các cân nhắc giám sát thực tế và sự khác biệt về phân bố hạt giữa các hệ thống lọc kém và lọc cao sẽ được thảo luận.

Quan tâm đến việc tìm hiểu thêm? Vui lòng hoàn thành biểu mẫu tại đây để nhận tư vấn từ chuyên gia.

Fab particle counting