Hóa chất xử lý có độ tinh khiết cao 
Kiểm soát ô nhiễm hạt

Kiểm soát ô nhiễm hạt hóa học trong quy trình có độ tinh khiết cao ngày càng trở nên phức tạp do công nghệ nanomet.

Khi các thiết bị bán dẫn trở nên phức tạp hơn và kích thước hạt quan trọng cho các công nghệ hàng đầu hiện nay giảm xuống đến phạm vi kích thước dưới 10 nm, việc kiểm soát và giảm thiểu ô nhiễm hạt trở nên càng quan trọng hơn bao giờ hết. Cho đến gần đây, có một khoảng cách đáng kể về độ nhạy giữa kích thước hạt tới hạn và giới hạn phát hiện của máy đếm hạt hóa học truyền thống. Với độ nhạy hàng đầu trong ngành là 20 nm, máy đếm hạt hóa học Chem 20™ cung cấp một giải pháp toàn diện cho việc kiểm soát và giảm thiểu ô nhiễm hạt có kích thước 20 nm trong các ứng dụng hóa học siêu tinh khiết. Các trường hợp sử dụng được trình bày ở đây cho thấy cách Chem 20 có thể được sử dụng trong toàn bộ ngành công nghệ điện tử vi mạch trong nhiều ứng dụng tại các nhà sản xuất bán dẫn, các nhà cung cấp hóa chất và các nhà cung cấp công cụ và linh kiện.

Việc phát hiện và loại bỏ sự ô nhiễm hạt ảnh hưởng đến năng suất trong các hóa chất xử lý có độ tinh khiết cao luôn là một thách thức trong ngành bán dẫn, và thách thức này đang trở nên ngày càng cấp thiết khi kích thước hạt quan trọng cho các node công nghệ hiện đại giảm xuống còn 10 nm và nhỏ hơn. Các máy đếm hạt hóa học truyền thống, thường có giới hạn về độ nhạy đối với các hạt có đường kính từ 30 đến 40 nm trở lên, không còn đáp ứng đủ độ nhạy cho các ứng dụng hóa chất quy trình hiện đại và cao cấp nữa. Tuy nhiên, nhờ vào sự tiến bộ gần đây trong công nghệ quang học laser và công nghệ cảm biến, máy đếm hạt hóa học Chem 20 cung cấp độ nhạy hạt xuống tới 20 nm trong hóa chất xử lý, với độ nhạy 9 nm trong trường hợp hạt kim loại. Điều này làm cho Chem 20 trở thành máy đếm hạt quang học nội tuyến nhạy nhất thế giới, cung cấp dữ liệu hạt 20 nm theo thời gian thực, phù hợp với nhiều ứng dụng hóa học xử lý có độ tinh khiết cao trong toàn ngành vi điện tử.

High-Purity Process Chemical (2)

Do hiệu suất của máy đếm hạt hóa học bị ảnh hưởng bởi chỉ số khúc xạ của hóa chất được đo, nên Chem 20 có sẵn hai cấu hình để đảm bảo đạt được độ nhạy hạt tối ưu trong mọi ứng dụng. Chem 20 tiêu chuẩn được tối ưu hóa cho chất lỏng có chỉ số khúc xạ thấp bao gồm nước, axit hydrofluoric, hydro peroxide và amoni hydroxit, trong khi Chem 20-HI được tối ưu hóa cho chất lỏng có chỉ số khúc xạ cao hơn bao gồm axit clohydric và axit sulfuric.

20 nm Chemical Particle Counter: Chem 20™

Đối với các máy đếm hạt quang học có độ nhạy cao như Chem 20, sự tán xạ ánh sáng nền của môi trường hóa học, thường được gọi là tán xạ phân tử, có thể trở thành một vấn đề nghiêm trọng. Đối với một số hóa chất, nó có thể lấn át máy dò quang học và ngăn cản việc phát hiện ánh sáng tán xạ từ các hạt. Chế độ Phân tán cao của Chem 20 phát hiện các hạt trong nhiều hóa chất có độ phân tán cao mà bình thường không thể thực hiện được, mang lại độ nhạy hạt dẫn đầu ngành trong phạm vi rộng nhất của các hóa chất xử lý khác nhau.

Bài viết này đã trình bày các ứng dụng chứng minh cách máy đếm hạt Chem 20 có thể là một công cụ có giá trị để kiểm soát và giảm thiểu sự ô nhiễm hạt hóa học trong quá trình có độ tinh khiết cao xuống tới 20 nm.

Quan tâm đến việc tìm hiểu thêm? Hoàn thành biểu mẫu tại đây để nhận tư vấn từ chuyên gia.