Hạt nano 20 nm v. 50 nm

Giám sát hạt nano trong hệ thống nước siêu tinh khiết (UPW) sử dụng tiêu chuẩn truyền thống với độ nhạy 50 nm đã được sử dụng hiệu quả và mang lại hiệu suất cao trong mười năm qua. Việc kiểm tra số lượng hạt tại 50 nm thường được sử dụng để đánh giá mức độ sạch của nước siêu tinh khiết (UPW) trong các tiêu chuẩn so sánh, bao gồm cả Máy đếm hạt trong dung dịch Ultra DI® 50 từ Particle Measuring Systems. Nước siêu tinh khiết (UPW) được sử dụng trong các ứng dụng quan trọng, chủ yếu để rửa và loại bỏ hạt từ bề mặt sản phẩm, cũng như là chất pha loãng cho các chất hoá học được sử dụng trong các quy trình khác nhau trong nhiều ngành công nghiệp điện tử. Độ sạch của UPW là yếu tố quan trọng để đạt được việc loại bỏ hạt tối ưu. Cải thiện hiệu suất của bộ lọc ultra-filter thành cấp độ lọc siêu nano (sub-nanoparticle), thường xuyên mang đến kết quả số lượng hạt bằng zero hoặc rất gần zero tại 50 nm cho hầu hết các hệ thống UPW tiên tiến đang sử dụng hiện nay. Trong những năm gần đây, sự tập trung vào giảm hạt ở kích thước nhỏ hơn (dưới 50 nm) đã tiến triển do sự tiến bộ công nghệ, với yêu cầu chất lượng sản phẩm bán dẫn phải thật chặt chẽ, và kích thước thiết kế co ngắn hơn để đóng gói nhiều transistor hơn vào một vi mạch duy nhất. Giám sát UPW tại 50 nm không còn cung cấp đủ sự phân biệt về hiệu suất hạt giữa các hệ thống nước tốt và tốt nhất. Các chuyên gia ngành công nghệ bán dẫn hiện đang nghiên cứu xem hiệu suất lọc siêu nano có thể được xác định chính xác bằng cách sử dụng máy đếm hạt 50 nm hay không, hoặc nếu giảm độ nhạy của phép đo sẽ cung cấp chứng cứ tốt hơn về khả năng của hệ thống lọc loại hạt siêu nano để loại bỏ các hạt nano.