Đảm bảo kiểm soát ô nhiễm phân tử không khí AMC trong môi trường sản xuất sạch

Trong môi trường sản xuất sạch, cần hiểu rõ hai khía cạnh về ô nhiễm phân tử không khí AMC: (1) các mức ô nhiễm nền tồn tại dưới điều kiện ổn định, và (2) những nồng độ tăng cao xảy ra trong các sự kiện ô nhiễm.

Một phương pháp giám sát mới đối với cả hai khía cạnh của ô nhiễm phân tử được ra đời. Các tiến bộ kỹ thuật gần đây đã làm cho việc thực hiện giám sát liên tục và thời gian thực tại các vị trí quan trọng trong môi trường sản xuất sạch trở nên khả thi với những tiến bộ đáng kể về độ nhạy và ổn định. Những cải tiến này được thực hiện bằng cách sử dụng một máy giám sát nhỏ, giá thấp và được dành riêng để liên tục giám sát một vị trí duy nhất quan trọng.

Thêm vào đó, cần phải phân biệt giữa môi trường quan trọng và không quan trọng. Các vị trí quan trọng là những vị trí mà quy trình hoặc sản phẩm có nguy cơ trực tiếp bị hư hại do ô nhiễm phân tử hoặc vị trí tồn tại nguồn ô nhiễm tiềm ẩn. Khu vực ô nhiễm không quan trọng thường là giám sát môi trường trong phòng sạch và giám sát không khí hồi lưu. Mức độ ô nhiễm ở những khu vực này không có tác động trực tiếp đến các sản phẩm và quy trình, nhưng là dấu hiệu cho thấy mức độ sạch chung. Các giải pháp giám sát tối ưu cho các vị trí quan trọng và không quan trọng cần được triển khai như một phần của hệ thống giám sát toàn diện của cơ sở sản xuất.

Quan tâm đến việc tìm hiểu thêm? Hoàn thành biểu mẫu tại đây để nhận được tư vấn chuyên gia.

Bạn đang tìm kiếm giải pháp Giám sát AMC? Hệ thống đo lường hạt của Particle Measuring Systems có đầy đủ các máy giám sát AirSentry II AMC cho:

• Giám sát AMC di động
• Giám sát AMC nhiều điểm (Multi-point)
• Giám sát AMC tại điểm sử dụng